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光纤光栅成栅方法
日期:2018-08-11

    光纤光栅制作方法中的驻波法及光纤表面损伤刻蚀法,成栅条件苛刻,成品率低,使用受到限制。目前主要的成栅有下列几种。
  1)短周期光纤光栅的制作
  a)内部写入法 内部写入法又称驻波法。将波长488nm的基模氛离子激光从一个端面耦合到错掺杂光纤中,经过光纤另一端面反射镜的反射,使光纤中的入射和反射激光相干涉形成驻波。由于纤芯材料具有光敏性,其折射率发生相应的周期变化,于是形成了与干涉周期一样的立体折射率光栅,它起到了Bragg反射器的作用。已测得其反射率可达90%以上,反射带宽小于200MHZ。此方法是早期使用的,由于实验要求在特制锗掺杂光纤中进行,要求锗含量很高,芯径很小,并且上述方法只能够制作布拉格波长与写入波长相同的光纤光栅,因此,这种光栅几乎无法获得任何有价值的应用,现在很少被采用。示。用准分子激光干涉的方法,Meltz等人首次制作了横向侧面曝光的光纤光栅。用两束相干紫外光束在接错光纤的侧面相干,形成干涉图,利用光纤材料的光敏性形成光纤光栅。栅距周期由 ∧=λuv/(2sinθ)给出??杉?,通过改变人射光波长或两相干光束之间的夹角,可以改变光栅常数,获得适宜的光纤光栅。但是要得到高反射率的光栅,则对所用光源及周围环境有较高的要求。这种光栅制造方法采用多脉冲曝光技术,光栅性质可以精确控制,但是容易受机械震动或温度漂移的影响,并且不易制作具有复杂截面的光纤光栅,目前这种方法使用不多。
  b)光纤光栅的单脉冲写入 由于准分子激光具有很高的单脉冲能量,聚焦后每次脉冲可达J•cm-2,近年来又发展了用单个激光脉冲在光纤上形成高反射率光栅。英国南安普敦大学的 Archambanlt等人对此方法进行了研究,他们认为这一过程与二阶和双光子吸收有关。由于光栅成栅时间短,因此环境因素对成栅的影响降到了最低限度。此外,此法可以在光纤技制过程中实现,接着进行涂覆,从而避免了光纤受到额外的损伤,保证了光栅的良好强度和完整性。这种成栅方法对光源的要求不高,特别适用于光纤光栅的低成本、大批量生产。
  c)相位掩膜法 将用电子束曝光刻好的图形掩膜置于探光纤上,相位掩膜具有压制零级,增强一级衍射的功能。紫外光经过掩膜相位调制后衍射到光纤上形成干涉条纹,写入周期为掩膜周期一半的Bragg光栅。这种成栅方法不依赖于人射光波长,只与相位光栅的周期有关,因此,对光源的相干性要求不高,简化了光纤光栅的制造系统。这种方法的缺点是制作掩膜复杂,为使KrF准分子激光光束相位以知间。隔进行调制,掩膜版一维表面间隙结构的振幅周期被选为 4π(nilica-1)/(A•λKrF)=π,这里A是表面间隙结构的振幅。这样得到的相位掩膜版可使准分子激光光束通过掩膜后,零级光束小子衍射光的5%,人射光束转向+1和-1级衍射,每级衍射光光强的典型值比总衍射光的35%还多。用低相干光源和相位掩膜版来制作光纤光栅的这种方法非常重要,并且相位掩膜与扫描曝光技术相结合还可以实现光栅耦合截面的控制,来制作特殊结构的光栅。该方法大大简化了光纤光栅的制作过程,是目前写入光栅极有前途的一种方法。

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